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文献
J-GLOBAL ID：201502237718777266
整理番号：15A0486504
H2およびHClとシリコン表面との反応に関する活性化エネルギーの計算に対するクラスターサイズの効果
Effects of cluster size on calculation of activation energies of silicon surface reactions with H2 and HCl
KUNIOSHI Nilson
(Graduate School of Creative Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku 169-8555, Tokyo, JPN)
,
ANZAI Keisuke
(Graduate School of Creative Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku 169-8555, Tokyo, JPN)
,
USHIJIMA Harunobu
(Graduate School of Creative Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku 169-8555, Tokyo, JPN)
,
FUWA Akio
(Graduate School of Creative Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku 169-8555, Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻： 418 ページ： 115-119 発行年： 2015年05月15日
JST資料番号： B0942A ISSN： 0022-0248 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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