文献
J-GLOBAL ID:201502237812678379
整理番号:15A0513580
粉末ターゲットのマグネトロンスパッタリングで蒸着した高いエントロピー合金薄膜
High entropy alloy thin films deposited by magnetron sputtering of powder targets
著者 (7件):
BRAECKMAN B.R.
(Dep. of Solid State Sciences, Ghent Univ., Krijgslaan 281 (S1), 9000 Gent, BEL)
,
BOYDENS F.
(Dep. of Solid State Sciences, Ghent Univ., Krijgslaan 281 (S1), 9000 Gent, BEL)
,
HIDALGO H.
(GREMI, UMR7344 CNRS, Univ. d’Orleans, BP6744, 45067 Orleans Cedex 2, FRA)
,
DUTHEIL P.
(GREMI, UMR7344 CNRS, Univ. d’Orleans, BP6744, 45067 Orleans Cedex 2, FRA)
,
JULLIEN M.
(Inst. Jean Lamour, Univ. de Lorraine, UMR CNRS, 7198 Vandoeuvre-les-Nancy, FRA)
,
THOMANN A.-L.
(GREMI, UMR7344 CNRS, Univ. d’Orleans, BP6744, 45067 Orleans Cedex 2, FRA)
,
DEPLA D.
(Dep. of Solid State Sciences, Ghent Univ., Krijgslaan 281 (S1), 9000 Gent, BEL)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
580
ページ:
71-76
発行年:
2015年04月01日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)