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文献
J-GLOBAL ID：201502237812678379
整理番号：15A0513580
粉末ターゲットのマグネトロンスパッタリングで蒸着した高いエントロピー合金薄膜
High entropy alloy thin films deposited by magnetron sputtering of powder targets
BRAECKMAN B.R.
(Dep. of Solid State Sciences, Ghent Univ., Krijgslaan 281 (S1), 9000 Gent, BEL)
,
BOYDENS F.
(Dep. of Solid State Sciences, Ghent Univ., Krijgslaan 281 (S1), 9000 Gent, BEL)
,
HIDALGO H.
(GREMI, UMR7344 CNRS, Univ. d’Orleans, BP6744, 45067 Orleans Cedex 2, FRA)
,
DUTHEIL P.
(GREMI, UMR7344 CNRS, Univ. d’Orleans, BP6744, 45067 Orleans Cedex 2, FRA)
,
JULLIEN M.
(Inst. Jean Lamour, Univ. de Lorraine, UMR CNRS, 7198 Vandoeuvre-les-Nancy, FRA)
,
THOMANN A.-L.
(GREMI, UMR7344 CNRS, Univ. d’Orleans, BP6744, 45067 Orleans Cedex 2, FRA)
,
DEPLA D.
(Dep. of Solid State Sciences, Ghent Univ., Krijgslaan 281 (S1), 9000 Gent, BEL)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 580 ページ： 71-76 発行年： 2015年04月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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