文献
J-GLOBAL ID:201502242234492201
整理番号:15A0227045
工作物表面に結晶学的損傷の導入によるプラズマ化学気化加工のエッチング選択に関する基礎的研究
Basic Study on Etching Selectivity of Plasma Chemical Vaporization Machining by Introducing Crystallographic Damage into Work Surface
著者 (9件):
SANO Yasuhisa
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
DOI Toshiro
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
KUROKAWA Syuhei
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
AIDA Hideo
(Namiki Precision Jewel Co., Ltd., Tokyo, JPN)
,
OHNISHI Osamu
(Univ. Miyazaki, Miyazaki, JPN)
,
UNEDA Michio
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
OKADA Yuu
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
NISHIKAWA Hiroaki
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
YAMAUCHI Kazuto
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Key Engineering Materials
(Key Engineering Materials)
巻:
625
ページ:
550-553
発行年:
2015年
JST資料番号:
D0744C
ISSN:
1013-9826
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)