文献
J-GLOBAL ID:201502243528353745
整理番号:15A0336479
集積回路故障解析におけるリーク電流研究と関連する欠陥位置確認
Leakage current study and relevant defect localization in integrated circuit failure analysis
著者 (4件):
WU Chunlei
(School of Electronic Information Engineering, Tianjin Univ., Tianjin 300072, CHN)
,
WU Chunlei
(Product Analysis Lab., Freescale Semiconductor (China) Ltd., Tianjin 300385, CHN)
,
YAO Suying
(School of Electronic Information Engineering, Tianjin Univ., Tianjin 300072, CHN)
,
CORINNE Berges
(TLS Analog Quality, Freescale Semiconducteurs France SAS, Toulouse 31023, FRA)
資料名:
Microelectronics Reliability
(Microelectronics Reliability)
巻:
55
号:
3-4
ページ:
463-469
発行年:
2015年02月
JST資料番号:
C0530A
ISSN:
0026-2714
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)