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文献
J-GLOBAL ID：201502251023595178
整理番号：15A0460369
hp16nm/ロジック11nmノード世代のEBマスク描画装置EBM-9000の描画時間推定
Writing time estimation of EB mask writer EBM-9000 for hp16nm/logic11nm node generation
KAMIKUBO Takashi
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
TAKEKOSHI Hidekazu
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
OGASAWARA Munehiro
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
YAMADA Hirokazu
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
HATTORI Kiyoshi
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 9231 ページ： 923107.1-923107.9 発行年： 2014年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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