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文献
J-GLOBAL ID:201502251255835353   整理番号:15A0529433

格子整合InAlN/GaN MOSHEMTの界面状態密度依存性に基づくシート電荷密度と閾値電圧を予測するモデル

A model predicting sheet charge density and threshold voltage with dependence on interface states density in LM-InAlN/GaN MOSHEMT
著者 (2件):
PANDEY Devashish
(National Inst. of Technol. Silchar, Dep. of Electronics and communication Engineering, 788010, Silchar, Assam, IND)
LENKA T. R.
(National Inst. of Technol. Silchar, Dep. of Electronics and communication Engineering, 788010, Silchar, Assam, IND)

資料名:
Semiconductors  (Semiconductors)

巻: 49  号:ページ: 513-518  発行年: 2015年04月 
JST資料番号: T0093A  ISSN: 1063-7826  CODEN: SMICES  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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