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文献
J-GLOBAL ID：201502251390066092
整理番号：15A0532901
水素インターカレーション:グラフェンへの二酸化珪素基板からのドーピングを無くす方法
Hydrogen intercalation: An approach to eliminate silicon dioxide substrate doping to graphene
IWASAKI Takuya
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
SUN Jian
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
KANETAKE Nozomu
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
CHIKUBA Takuo
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
AKABORI Masashi
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
MURUGANATHAN Manoharan
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
MIZUTA Hiroshi
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
MIZUTA Hiroshi
(Univ. Southampton, Southampton, GBR)
資料名：
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻： 8 号： 1 ページ： 015101.1-015101.4 発行年： 2015年01月
JST資料番号： F0599C ISSN： 1882-0778 CODEN： APEPC4 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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