文献
J-GLOBAL ID:201502251390066092
整理番号:15A0532901
水素インターカレーション:グラフェンへの二酸化珪素基板からのドーピングを無くす方法
Hydrogen intercalation: An approach to eliminate silicon dioxide substrate doping to graphene
著者 (8件):
IWASAKI Takuya
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
SUN Jian
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
KANETAKE Nozomu
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
CHIKUBA Takuo
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
AKABORI Masashi
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
MURUGANATHAN Manoharan
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
MIZUTA Hiroshi
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
MIZUTA Hiroshi
(Univ. Southampton, Southampton, GBR)
資料名:
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻:
8
号:
1
ページ:
015101.1-015101.4
発行年:
2015年01月
JST資料番号:
F0599C
ISSN:
1882-0778
CODEN:
APEPC4
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)