文献
J-GLOBAL ID:201502255046828043
整理番号:15A0247561
反応性マグネトロンスパッタリングにより堆積したBi4V2O11とBITAVOX.20被膜
Bi4V2O11 and BITAVOX.20 coatings deposited by reactive magnetron sputtering
著者 (4件):
DEREEPER E.
(IRTES-LERMPS, UTBM, Site de Montbeliard, F90010 Belfort Cedex, FRA)
,
BRIOIS P.
(IRTES-LERMPS, UTBM, Site de Montbeliard, F90010 Belfort Cedex, FRA)
,
VANNIER R.-N.
(Unite de Catalyse et de Chimie du Solide, UMR CNRS 8181, Univ. Lille 1, ENSCL, BP 90108, 59652 Villeneuve d’Ascq ...)
,
BILLARD A.
(IRTES-LERMPS, UTBM, Site de Montbeliard, F90010 Belfort Cedex, FRA)
資料名:
Materials Chemistry and Physics
(Materials Chemistry and Physics)
巻:
153
ページ:
9-16
発行年:
2015年03月01日
JST資料番号:
E0934A
ISSN:
0254-0584
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)