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文献
J-GLOBAL ID：201502255046828043
整理番号：15A0247561
反応性マグネトロンスパッタリングにより堆積したBi4V2O11とBITAVOX.20被膜
Bi4V2O11 and BITAVOX.20 coatings deposited by reactive magnetron sputtering
DEREEPER E.
(IRTES-LERMPS, UTBM, Site de Montbeliard, F90010 Belfort Cedex, FRA)
,
BRIOIS P.
(IRTES-LERMPS, UTBM, Site de Montbeliard, F90010 Belfort Cedex, FRA)
,
VANNIER R.-N.
(Unite de Catalyse et de Chimie du Solide, UMR CNRS 8181, Univ. Lille 1, ENSCL, BP 90108, 59652 Villeneuve d’Ascq ...)
,
BILLARD A.
(IRTES-LERMPS, UTBM, Site de Montbeliard, F90010 Belfort Cedex, FRA)
資料名：
Materials Chemistry and Physics
(Materials Chemistry and Physics)
巻： 153 ページ： 9-16 発行年： 2015年03月01日
JST資料番号： E0934A ISSN： 0254-0584 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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