文献
J-GLOBAL ID:201502255469962340
整理番号:15A0743132
プラズマドーピングプロセスの電気的活性化,不活性化,再活性化機構の研究
Electrical Activation, Deactivation, and Reactivation Mechanism Study of Plasma Doping Processes
著者 (1件):
QIN Shu
(Micron Technol., Inc., ID, USA)
資料名:
IEEE Transactions on Electron Devices
(IEEE Transactions on Electron Devices)
巻:
62
号:
6
ページ:
1991-1997
発行年:
2015年06月
JST資料番号:
C0222A
ISSN:
0018-9383
CODEN:
IETDAI
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)