文献
J-GLOBAL ID:201502256336606385
整理番号:15A0687967
原子層堆積したAl2O3膜とAl/Al2O3/Si構造に及ぼすH2プラズマと焼なましの影響
Effects of H2 plasma and annealing on atomic-layer-deposited Al2O3 films and Al/Al2O3/Si structures
著者 (4件):
CHOI Kyeong-Keun
(Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyeongbuk, KOR)
,
KEE Jong
(Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyeongbuk, KOR)
,
PARK Chan-Gyung
(Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyeongbuk, KOR)
,
KIM Deok-Kee
(Sejong Univ., Seoul, KOR)
資料名:
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻:
8
号:
4
ページ:
045801.1-045801.4
発行年:
2015年04月
JST資料番号:
F0599C
ISSN:
1882-0778
CODEN:
APEPC4
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)