文献
J-GLOBAL ID:201502260711738232
整理番号:15A0228376
マグネトロンスパッタリングにより成長したGe/Si(100)エピタキシャル膜に対する周期的熱アニール
Cyclic thermal annealing on Ge/Si(100) epitaxial films grown by magnetron sputtering
著者 (5件):
LIU Ziheng
(School of Photovoltaic and Renewable Energy Engineering, Univ. of New South Wales, NSW 2052, Sydney, AUS)
,
HAO Xiaojing
(School of Photovoltaic and Renewable Energy Engineering, Univ. of New South Wales, NSW 2052, Sydney, AUS)
,
HO-BAILLIE Anita
(School of Photovoltaic and Renewable Energy Engineering, Univ. of New South Wales, NSW 2052, Sydney, AUS)
,
TSAO Chao-yang
(Dep. of Optics and Photonics, National Central Univ., 320 Chung-Li, Taiwan)
,
GREEN Martin A.
(School of Photovoltaic and Renewable Energy Engineering, Univ. of New South Wales, NSW 2052, Sydney, AUS)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
574
ページ:
99-102
発行年:
2015年01月01日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)