文献
J-GLOBAL ID:201502260744643636
整理番号:15A0556422
(110)Si上のエピタキシャルNi-シリサイドナノ接合周期アレイの作製及び評価
Fabrication and characterization of periodic arrays of epitaxial Ni-silicide nanocontacts on (110)Si
著者 (4件):
CHENG S.L.
(Dep. of Chemical and Materials Engineering, National Central Univ., Chung-Li City, Taoyuan, Taiwan, TWN)
,
CHANG L.H.
(Dep. of Chemical and Materials Engineering, National Central Univ., Chung-Li City, Taoyuan, Taiwan, TWN)
,
CHUANG C.F.
(Dep. of Chemical and Materials Engineering, National Central Univ., Chung-Li City, Taoyuan, Taiwan, TWN)
,
CHEN H.
(Dep. of Chemical and Materials Engineering, National Central Univ., Chung-Li City, Taoyuan, Taiwan, TWN)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
343
ページ:
88-93
発行年:
2015年07月15日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)