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文献
J-GLOBAL ID:201502260744643636   整理番号:15A0556422

(110)Si上のエピタキシャルNi-シリサイドナノ接合周期アレイの作製及び評価

Fabrication and characterization of periodic arrays of epitaxial Ni-silicide nanocontacts on (110)Si
著者 (4件):
CHENG S.L.
(Dep. of Chemical and Materials Engineering, National Central Univ., Chung-Li City, Taoyuan, Taiwan, TWN)
CHANG L.H.
(Dep. of Chemical and Materials Engineering, National Central Univ., Chung-Li City, Taoyuan, Taiwan, TWN)
CHUANG C.F.
(Dep. of Chemical and Materials Engineering, National Central Univ., Chung-Li City, Taoyuan, Taiwan, TWN)
CHEN H.
(Dep. of Chemical and Materials Engineering, National Central Univ., Chung-Li City, Taoyuan, Taiwan, TWN)

資料名:
Applied Surface Science  (Applied Surface Science)

巻: 343  ページ: 88-93  発行年: 2015年07月15日 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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