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文献
J-GLOBAL ID：201502264911549073
整理番号：15A0727146
シリカ溶液精製プロセスにおけるホウ素抽出反応機構の理論的解析
田村理沙
(早大 先進理工)
,
國本雅宏
(早大 ナノテク研)
,
國本雅宏
(JST-CREST)
,
福中康博
(早大 ナノテク研)
,
福中康博
(JST-CREST)
,
中井浩巳
(早大 先進理工)
,
本間敬之
(早大 先進理工)
,
本間敬之
(早大 ナノテク研)
,
本間敬之
(JST-CREST)
資料名：
電気化学会大会講演要旨集(CD-ROM)
巻： 82nd ページ： ROMBUNNO.2Q11 発行年： 2015年03月09日
JST資料番号： Y0048B 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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