文献
J-GLOBAL ID:201502265421507646
整理番号:15A0266021
複雑な分子ブラシアーキテクチャーによる先端的フォトレジスト技術:ジブロックブラシ三元重合体ベースのポジ型フォトレジスト材料
Advanced photoresist technologies by intricate molecular brush architectures: Diblock brush terpolymer-based positive-tone photoresist materials
著者 (12件):
SUN Guorong
(Dep. of Chemistry, Texas A&M Univ., Coll. Station, Texas, 77842; Dep. of Chemical Engineering, Texas A&M Univ. ...)
,
CHO Sangho
,
YANG Fan
,
HE Xun
,
PAVIA-SANDERS Adriana
,
CLARK Corrie
,
RAYMOND Jeffery E.
,
VERKHOTUROV Stanislav V.
,
SCHWEIKERT Emile A.
,
THACKERAY James W.
,
TREFONAS Peter
,
WOOLEY Karen L.
資料名:
Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry
(Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry)
巻:
53
号:
2
ページ:
193-199
発行年:
2015年01月15日
JST資料番号:
C0337C
ISSN:
0887-624X
CODEN:
JPLCAT
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)