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文献
J-GLOBAL ID：201502266349239786
整理番号：15A0145807
熱及びプラズマ増強原子層堆積AlN膜の初期成長,屈折率,結晶度
Initial growth, refractive index, and crystallinity of thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition AlN films
VAN BUI Hao
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
,
WIGGERS Frank B.
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
,
GUPTA Anubha
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
,
NGUYEN Minh D.
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
,
AARNINK Antonius A. I.
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
,
DE JONG Michel P.
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
,
KOVALGIN Alexey Y.
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 33 号： 1 ページ： 01A111-01A111-6 発行年： 2015年01月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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