文献
J-GLOBAL ID:201502266349239786
整理番号:15A0145807
熱及びプラズマ増強原子層堆積AlN膜の初期成長,屈折率,結晶度
Initial growth, refractive index, and crystallinity of thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition AlN films
著者 (7件):
VAN BUI Hao
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
,
WIGGERS Frank B.
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
,
GUPTA Anubha
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
,
NGUYEN Minh D.
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
,
AARNINK Antonius A. I.
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
,
DE JONG Michel P.
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
,
KOVALGIN Alexey Y.
(MESA + Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P. O. Box 217, 7500 AE Enschede, NLD)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
33
号:
1
ページ:
01A111-01A111-6
発行年:
2015年01月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)