文献
J-GLOBAL ID:201502270327773085
整理番号:15A0706486
クラスタイオンビームによるスパッタリングの新しいメカニズム
The new mechanism of sputtering with cluster ion beams
著者 (3件):
CHERNYSH V.S.
(Fac. of Physics, Lomonosov Moscow State Univ., Leninskie Gory, Moscow 119991, RUS)
,
IESHKIN A.E.
(Fac. of Physics, Lomonosov Moscow State Univ., Leninskie Gory, Moscow 119991, RUS)
,
ERMAKOV Yu.A.
(Scobeltsyn Nuclear Physics Res. Inst., Lomonosov State Moscow Univ., Leninskiye Gory, Moscow 119991, RUS)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
326
ページ:
285-288
発行年:
2015年01月30日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)