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文献
J-GLOBAL ID：201502274867566866
整理番号：15A0145829
Cu相互接続のキャッピング層用の新しいCVD/原子層堆積前駆体「Rudense」からのRu薄膜の特性化
Characterization of Ru thin films from a novel CVD/atomic layer deposition precursor “Rudense” for capping layer of Cu interconnects
MANIWA Atsushi
(TOSOH Corp., 2743-1, Hayakawa, Ayase, Kanagawa 252-1123, JPN)
,
CHIBA Hirokazu
(TOSOH Corp., 2743-1, Hayakawa, Ayase, Kanagawa 252-1123, JPN)
,
KAWANO Kazuhisa
(TOSOH Corp., 2743-1, Hayakawa, Ayase, Kanagawa 252-1123, JPN)
,
KOISO Naoyuki
(TOSOH Corp., 2743-1, Hayakawa, Ayase, Kanagawa 252-1123, Japan and Sagami Chemical Res. Inst., 2743-1, Hayakawa ...)
,
OIKE Hiroyuki
(TOSOH Corp., 2743-1, Hayakawa, Ayase, Kanagawa 252-1123, Japan and Sagami Chemical Res. Inst., 2743-1, Hayakawa ...)
,
FURUKAWA Taishi
(TOSOH Corp., 2743-1, Hayakawa, Ayase, Kanagawa 252-1123, Japan and Sagami Chemical Res. Inst., 2743-1, Hayakawa ...)
,
TADA Ken-ichi
(Sagami Chemical Res. Inst., 2743-1, Hayakawa, Ayase, Kanagawa 252-1193, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 33 号： 1 ページ： 01A133-01A133-4 発行年： 2015年01月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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