文献
J-GLOBAL ID:201502275308648450
整理番号:15A0590245
HfO2,HfO2:AlおよびHfO2:W薄膜の特性への基板温度の影響
Effects of substrate temperature on properties of HfO2, HfO2:Al and HfO2:W films
著者 (3件):
LIN Su-Shia
(Dep. of Applied Materials and Optoelectronic Engineering, National Chi Nan Univ., Puli, Nantou Hsien 54561, Taiwan ...)
,
LIAO Chung-Sheng
(Dep. of Electrical Engineering, National Chi Nan Univ., Puli, Nantou Hsien 54561, Taiwan, R.O.C.)
,
FAN Sheng-You
(Dep. of Applied Materials and Optoelectronic Engineering, National Chi Nan Univ., Puli, Nantou Hsien 54561, Taiwan ...)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
271
ページ:
269-275
発行年:
2015年06月15日
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)