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文献
J-GLOBAL ID：201502277028056045
整理番号：15A0654107
シリコン基板および金属被覆基板上での残留層の無い反転ナノインプリントリソグラフィー
Residual layer-free Reverse Nanoimprint Lithography on silicon and metal-coated substrates
FERNANDEZ Ariadna
(Catalan Inst. of Nanoscience and Nanotechnology, ICN2 Building, UAB Campus, 08193 Bellaterra, Barcelona, ESP)
,
MEDINA Juan
(Catalan Inst. of Nanoscience and Nanotechnology, ICN2 Building, UAB Campus, 08193 Bellaterra, Barcelona, ESP)
,
BENKEL Christian
(Karlsruhe Inst. of Technol. (KIT), Inst. of Microstructure Technol., Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, D-76344 ...)
,
GUTTMANN Markus
(Karlsruhe Inst. of Technol. (KIT), Inst. of Microstructure Technol., Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, D-76344 ...)
,
BILENBERG Brian
(NIL Technol. ApS Diplomvej 381, DK-2800 Kongens Lyngby, DNK)
,
THAMDRUP Lasse H.
(NIL Technol. ApS Diplomvej 381, DK-2800 Kongens Lyngby, DNK)
,
NIELSEN Theodor
(NIL Technol. ApS Diplomvej 381, DK-2800 Kongens Lyngby, DNK)
,
SOTOMAYOR Torres Clivia M.
(Catalan Inst. of Nanoscience and Nanotechnology, ICN2 Building, UAB Campus, 08193 Bellaterra, Barcelona, ESP)
,
SOTOMAYOR Torres Clivia M.
(ICREA; Institucio Catalana de Recerca I Estudis Avancats, 08010 Barcelona, ESP)
,
KEHAGIAS Nikolaos
(Catalan Inst. of Nanoscience and Nanotechnology, ICN2 Building, UAB Campus, 08193 Bellaterra, Barcelona, ESP)
資料名：
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻： 141 ページ： 56-61 発行年： 2015年06月15日
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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