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文献
J-GLOBAL ID：201502279233269305
整理番号：15A0228738
rfスパッタしたSnOx薄膜の特性に対する急速熱アニール温度の影響
Influence of rapid-thermal-annealing temperature on properties of rf-sputtered SnO thin films
JIANG Yu-Hao
(Graduate Inst. of Applied Mechanics, National Taiwan Univ., Taipei 10617, Taiwan)
,
CHIU I-Chung
(Graduate Inst. of Photonics and Optoelectronics & Dep. of Electrical Engineering, National Taiwan Univ., Taipei ...)
,
KAO Peng-Kai
(Dep. of Chemical Engineering, National Taiwan Univ., Taipei 10617, Taiwan)
,
HE Jyun-Ci
(Graduate Inst. of Photonics and Optoelectronics & Dep. of Electrical Engineering, National Taiwan Univ., Taipei ...)
,
WU Yu-Han
(Materials and Chemical Res. Laboratories, Industrial Technol. Res. Inst., Chutung 31040, Taiwan)
,
YANG Yao-Jhen
(Dep. of Chemical Engineering, National Taiwan Univ., Taipei 10617, Taiwan)
,
HSU Cheng-Che
(Dep. of Chemical Engineering, National Taiwan Univ., Taipei 10617, Taiwan)
,
CHENG I-Chun
(Graduate Inst. of Photonics and Optoelectronics & Dep. of Electrical Engineering, National Taiwan Univ., Taipei ...)
,
CHEN Jian-Zhang
(Graduate Inst. of Applied Mechanics, National Taiwan Univ., Taipei 10617, Taiwan)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 327 ページ： 358-363 発行年： 2015年02月01日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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