文献
J-GLOBAL ID:201502282378060324
整理番号:15A0746779
ゲルマニウム添加によるシリコン薄膜における非晶質構造の安定化
Stabilization of amorphous structure in silicon thin film by adding germanium
著者 (2件):
MAKINO Nobuaki
(Nanosystem Sci., Yokohama City Univ., 22-2 Seto, Kanazawa-ku, Yokohama 236-0027, JPN)
,
SHIGETA Yukichi
(Nanosystem Sci., Yokohama City Univ., 22-2 Seto, Kanazawa-ku, Yokohama 236-0027, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
117
号:
23
ページ:
235302-235302-6
発行年:
2015年06月21日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)