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文献
J-GLOBAL ID：201502283129511541
整理番号：15A0475665
反応性スパッタリング非晶質アルミナ薄膜中の焼なまし誘導γ相核形成,クラスタ化,および界面動力学の透過型電子顕微鏡法とX線光電子分光法研究
A transmission electron microscopy and X-ray photoelectron spectroscopy study of annealing induced γ-phase nucleation, clustering, and interfacial dynamics in reactively sputtered amorphous alumina thin films
KUMAR A. K. Nanda
(ECMS Div., Central Electro Chemical Res. Inst., Karaikudi, IND)
,
PRASANNA S.
(Dep. of Physics, PSG Coll. of Technol., Coimbatore, IND)
,
SUBRAMANIAN B.
(ECMS Div., Central Electro Chemical Res. Inst., Karaikudi, IND)
,
JAYAKUMAR S.
(Dep. of Physics, PSG Inst. of Technol. and Applied Res., Coimbatore, IND)
,
RAO G. Mohan
(Dep. of Instrumentation, Indian Inst. of Sci., Bangalore, IND)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 117 号： 12 ページ： 125307-125307-11 発行年： 2015年03月28日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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