文献
J-GLOBAL ID:201502283129511541
整理番号:15A0475665
反応性スパッタリング非晶質アルミナ薄膜中の焼なまし誘導γ相核形成,クラスタ化,および界面動力学の透過型電子顕微鏡法とX線光電子分光法研究
A transmission electron microscopy and X-ray photoelectron spectroscopy study of annealing induced γ-phase nucleation, clustering, and interfacial dynamics in reactively sputtered amorphous alumina thin films
著者 (5件):
KUMAR A. K. Nanda
(ECMS Div., Central Electro Chemical Res. Inst., Karaikudi, IND)
,
PRASANNA S.
(Dep. of Physics, PSG Coll. of Technol., Coimbatore, IND)
,
SUBRAMANIAN B.
(ECMS Div., Central Electro Chemical Res. Inst., Karaikudi, IND)
,
JAYAKUMAR S.
(Dep. of Physics, PSG Inst. of Technol. and Applied Res., Coimbatore, IND)
,
RAO G. Mohan
(Dep. of Instrumentation, Indian Inst. of Sci., Bangalore, IND)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
117
号:
12
ページ:
125307-125307-11
発行年:
2015年03月28日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)