文献
J-GLOBAL ID:201502286183301870
整理番号:15A0440560
スパッタされた薄膜のNdFeB磁石と一体化したポリジメチルシロキサンダイアフラム
A polydimethylsiloxane diaphragm integrated with a sputtered thin film NdFeB magnet
著者 (6件):
ZHI Chao
(Tokyo Inst. of Technol., Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Yokohama, JPN)
,
SHINSHI Tadahiko
(Tokyo Inst. of Technol., Precision and Intelligence Lab., Mail Box: R2-38, 4259 Nagatsuta-cho, Midori-ku, 226-8503 ...)
,
UEHARA Minoru
(Hitachi Metals, Ltd., Magnetic Materials Res. Lab., Osaka, JPN)
,
MATSUTANI Akihiro
(Tokyo Inst. of Technol., Technical Dep., Semiconductor and MEMS Processing Center, Yokohama, JPN)
,
YUITO Isamu
(Waseda Univ., Inst. for Nanoscience and Nanotechnology, Tokyo, JPN)
,
TAKEUCHI Teruaki
(Waseda Univ., Inst. for Nanoscience and Nanotechnology, Tokyo, JPN)
資料名:
Microsystem Technologies
(Microsystem Technologies)
巻:
21
号:
3
ページ:
675-681
発行年:
2015年03月
JST資料番号:
W2056A
ISSN:
0946-7076
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)