文献
J-GLOBAL ID:201502286932055090
整理番号:15A0287041
プラズマ増速化学蒸着法により成長させた窒化炭素ナノ構造の濡れ挙動
Wetting behaviour of carbon nitride nanostructures grown by plasma enhanced chemical vapour deposition technique
著者 (3件):
AHMAD Kamal Shafarina Azlinda
(Low Dimensional Materials Res. Centre, Dep. of Physics, Univ. of Malaya, 50603 Kuala Lumpur, Malaysia)
,
RITIKOS Richard
(Low Dimensional Materials Res. Centre, Dep. of Physics, Univ. of Malaya, 50603 Kuala Lumpur, Malaysia)
,
ABDUL Rahman Saadah
(Low Dimensional Materials Res. Centre, Dep. of Physics, Univ. of Malaya, 50603 Kuala Lumpur, Malaysia)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
328
ページ:
146-153
発行年:
2015年02月15日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)