文献
J-GLOBAL ID:201502289531690906
整理番号:15A0695444
Sn-Ag-Cuはんだインターコネクトのエレクトロマイグレーション挙動における磁場誘起異方性
Magnetic-field induced anisotropy in electromigration behavior of Sn-Ag-Cu solder interconnects
著者 (7件):
CHEN Jian-Qiang
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
,
GUO Jing-Dong
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
,
MA Hui-Cai
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
,
LIU Kai-Lang
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
,
ZHU Qing-Sheng
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
,
SHANG Jian Ku
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
,
SHANG Jian Ku
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, Illinois, USA)
資料名:
Journal of Materials Research
(Journal of Materials Research)
巻:
30
号:
8
ページ:
1065-1071
発行年:
2015年04月28日
JST資料番号:
D0987B
ISSN:
0884-2914
CODEN:
JMREEE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)