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文献
J-GLOBAL ID:201502289531690906   整理番号:15A0695444

Sn-Ag-Cuはんだインターコネクトのエレクトロマイグレーション挙動における磁場誘起異方性

Magnetic-field induced anisotropy in electromigration behavior of Sn-Ag-Cu solder interconnects
著者 (7件):
CHEN Jian-Qiang
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
GUO Jing-Dong
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
MA Hui-Cai
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
LIU Kai-Lang
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
ZHU Qing-Sheng
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
SHANG Jian Ku
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
SHANG Jian Ku
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, Illinois, USA)

資料名:
Journal of Materials Research  (Journal of Materials Research)

巻: 30  号:ページ: 1065-1071  発行年: 2015年04月28日 
JST資料番号: D0987B  ISSN: 0884-2914  CODEN: JMREEE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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