文献
J-GLOBAL ID:201502294764214849
整理番号:15A0240254
PECVD低残留応力窒化ケイ素の解析とCMUTデバイスの製作最適化
PECVD low stress silicon nitride analysis and optimization for the fabrication of CMUT devices
著者 (7件):
BAGOLINI Alvise
(Fondazione, Bruno Kessler (FBK), Trento, ITA)
,
SAVOIA Alessandro Stuart
(Universita Roma Tre, Roma, ITA)
,
PICCIOTTO Antonino
(Fondazione, Bruno Kessler (FBK), Trento, ITA)
,
BOSCARDIN Maurizio
(Fondazione, Bruno Kessler (FBK), Trento, ITA)
,
BELLUTTI Pierluigi
(Fondazione, Bruno Kessler (FBK), Trento, ITA)
,
LAMBERTI Nicola
(Universita di Salerno, Fisciano (SA), ITA)
,
CALIANO Giosue
(Universita Roma Tre, Roma, ITA)
資料名:
Journal of Micromechanics and Microengineering
(Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻:
25
号:
1
ページ:
015012,1-12
発行年:
2015年01月
JST資料番号:
W1424A
ISSN:
0960-1317
CODEN:
JMMIEZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)