文献
J-GLOBAL ID:201602201914352510
整理番号:16A0193956
MVM-SEMシステムに基づくリソグラフィシミュレーションの能力
The capability of Lithography simulation based on MVM-SEM system
著者 (14件):
YOSHIKAWA Shingo
(Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN)
,
FUJII Nobuaki
(Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN)
,
KANNO Koichi
(Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN)
,
IMAI Hidemichi
(Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN)
,
HAYANO Katsuya
(Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN)
,
MIYASHITA Hiroyuki
(Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN)
,
SHIDA Soichi
(ADVANTEST CORP., JPN)
,
MURAKAWA Tsutomu
(ADVANTEST CORP., JPN)
,
KURIBARA Masayuki
(ADVANTEST CORP., JPN)
,
MATSUMOTO Jun
(ADVANTEST CORP., JPN)
,
NAKAMURA Takayuki
(ADVANTEST CORP., JPN)
,
MATSUSHITA Shohei
(D2S, KK., JPN)
,
HARA Daisuke
(D2S, KK., JPN)
,
PANG Linyong
(D2S, Inc., USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
9635
ページ:
96351X.1-96351X.9
発行年:
2015年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)