文献
J-GLOBAL ID:201602203062242049
整理番号:16A0289173
電子照射-電子励起によるパラジウム/酸化ケイ素(Pd/SiOx)界面でのアモルファス相形成
An amorphous phase formation at a palladium/silicon oxide (Pd/SiOx) interface by electron irradiation - electronic excitation
著者 (4件):
NAGASE Takeshi
(Osaka Univ., JPN)
,
YAMASHITA Ryo
(Osaka Univ., JPN)
,
YABUUCHI Atsushi
(Osaka Univ., JPN)
,
LEE Jung-Goo
(Korea Inst. of Materials Sci., KOR)
資料名:
日本金属学会講演概要(CD-ROM)
(Collected Abstracts of Spring Meeting of the Japan Institute Metals and Materials (CD-ROM))
巻:
158th
ページ:
ROMBUNNO.63
発行年:
2016年03月09日
JST資料番号:
S0988B
ISSN:
2433-3093
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)