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文献
J-GLOBAL ID:201602203858405985   整理番号:16A0003446

MnO2スラリーを用いた高圧雰囲気対応型CMP装置によるSiCウエハ特性に関する研究

著者 (8件):
TAN Zhe
(九大)
土肥俊郎
(九大)
黒河周平
(九大)
大西修
(九大)
畝田道雄
(金沢工大)
山崎努
(九大)
YIN Tao
(九大)
WANG Zhida
(九大)

資料名:
日本機械学会九州支部講演論文集  (日本機械学会九州支部総会講演会講演論文集)

巻: 65th  ページ: 325-326  発行年: 2012年03月16日 
JST資料番号: L0016A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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