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文献
J-GLOBAL ID：201602204347858855
整理番号：13A1480184
Effects of ion bombardment on microcrystalline silicon growth by inductively coupled plasma assistant magnetron sputtering
He Yangyang
(School of Physics and Materials Engineering,Dalian Nationalities Univ., Dalian)
,
Su Yuanjun
(Dalian Univ. of Technol. Key Lab. of Materials Modification by Laser,Ion and Electron Beams,Ministry of Education ...)
,
Zhu Ming
(Dalian Univ. of Technol. Key Lab. of Materials Modification by Laser,Ion and Electron Beams,Ministry of Education ...)
,
Cao Baosheng
(School of Physics and Materials Engineering,Dalian Nationalities Univ., Dalian)
,
Dong Bin
(School of Physics and Materials Engineering,Dalian Nationalities Univ., Dalian)
資料名：
Science China. Physics, Mechanics & Astronomy
(Science China. Physics, Mechanics & Astronomy)
巻： 55 号： 11 ページ： 2070-2075 発行年： 2012年
JST資料番号： C2587A ISSN： 1674-7348 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 中国 (CHN) 言語： 英語 (EN)
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