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J-GLOBAL ID：201602205777949940 整理番号：16A0196159

ULSI素子内の熱酸化膜形成時に生ずる転位の蓄積シミュレーション

Simulation of dislocation accumulation in ULSI cells during the formation of thermal oxide film

著者 (4件)：

佐藤満弘

(北見工大)

大橋鉄也

(北見工大)

及川亨

(コベルコ建機)

丸泉琢也

(東京都市大総合研)

資料名：

日本機械学会論文集(Web) (Bulletin of the JSME (Web))

巻： 82 号： 833 ページ： 15-00457(J-STAGE) 発行年： 2016年
JST資料番号： U0182B ISSN： 2187-9761 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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