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文献
J-GLOBAL ID:201602210187362395   整理番号:16A0284114

低欠陥密度GaN基板の熱酸化過程の評価

著者 (13件):
山田高寛
(大阪大 大学院)
伊藤丈予
(大阪大 大学院)
淺原亮平
(大阪大 大学院)
渡邉健太
(大阪大 大学院)
野崎幹人
(大阪大 大学院)
中澤敏志
(パナソニック)
按田義治
(パナソニック)
石田昌宏
(パナソニック)
上田哲三
(パナソニック)
吉越章隆
(原子力機構)
細井卓治
(大阪大 大学院)
志村考功
(大阪大 大学院)
渡部平司
(大阪大 大学院)

資料名:
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))

巻: 63rd  ページ: ROMBUNNO.22A-W541-4  発行年: 2016年03月03日 
JST資料番号: Y0054B  ISSN: 2436-7613  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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