文献
J-GLOBAL ID:201602210752741427
整理番号:16A0018911
極端紫外線リソグラフィーを超えるための金属吸収材料の評価
Evaluation of Metal Absorber Materials for Beyond Extreme Ultraviolet Lithography
著者 (6件):
HONG Seongchul
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
,
KIM Jung Sik
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
,
LEE Jae Uk
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
,
LEE Seung Min
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
,
KIM Jung Hwan
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
,
AHN Jinho
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
資料名:
Journal of Nanoscience and Nanotechnology
(Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻:
15
号:
11
ページ:
8652-8655
発行年:
2015年11月
JST資料番号:
W1351A
ISSN:
1533-4880
CODEN:
JNNOAR
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)