文献
J-GLOBAL ID:201602211170893377
整理番号:16A0187530
EUVリソグラフィ用300バイレイヤのMo/Si多層膜ミラー
Mo/Si multilayer mirrors with 300-bilayers for EUV lithography
著者 (4件):
ICHIMARU Satoshi
(NTT Advanced Technol. Corp., Kanagawa, JPN)
,
HATAYAMA Masatoshi
(NTT Advanced Technol. Corp., Kanagawa, JPN)
,
OHCHI Tadayuki
(NTT Advanced Technol. Corp., Kanagawa, JPN)
,
OKU Satoshi
(NTT Advanced Technol. Corp., Kanagawa, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
9658
ページ:
965814.1-965814.5
発行年:
2015年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)