文献
J-GLOBAL ID:201602214383864108
整理番号:16A0182769
原子層堆積からGaAs(111)A-2×2上の1サイクルのトリメチルアルミニウムと水の界面における再構成
Reconstruction at the interface of one cycle of trimethylaluminum and water on GaAs(111)A-2×2 from atomic layer deposition
著者 (6件):
FANCHIANG Yu-Ting
(National Taiwan Univ., Taipei, TWN)
,
CHIANG Tsung-Hung
(National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN)
,
PI Tun-Wen
(National Synchrotron Radiation Res. Center, Hsinchu, TWN)
,
WERTHEIM Gunther K.
(Woodland Consulting, NJ, USA)
,
KWO J. Raynien
(National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN)
,
HONG Minghwei
(National Taiwan Univ., Taipei, TWN)
資料名:
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻:
8
号:
12
ページ:
126602.1-126602.4
発行年:
2015年12月
JST資料番号:
F0599C
ISSN:
1882-0778
CODEN:
APEPC4
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)