文献
J-GLOBAL ID:201602214889606760
整理番号:16A0190621
アナモルフィック高NA EUVリソグラフィ光学
Anamorphic high-NA EUV Lithography Optics
著者 (5件):
MIGURA Sascha
(Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen, DEU)
,
KNEER Bernhard
(Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen, DEU)
,
NEUMANN Jens Timo
(Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen, DEU)
,
KAISER Winfried
(Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen, DEU)
,
VAN SCHOOT Jan
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
9661
ページ:
96610T.1-96610T.9
発行年:
2015年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)