文献
J-GLOBAL ID:201602216043748190
整理番号:16A0154988
WN(NR2)3タイプのタングステンニトリド錯体からのWNxCy薄膜の化学蒸着への配位子構造の効果
Effect of the Ligand Structure on Chemical Vapor Deposition of WNxCy Thin Films from Tungsten Nitrido Complexes of the Type WN(NR2)3
著者 (8件):
KOLEY Arijit
(Univ. Florida, Florida, USA)
,
O’DONOHUE Christopher T.
(Univ. Florida, Florida, USA)
,
NOLAN Michelle M.
(Univ. Florida, Florida, USA)
,
MCCLAIN K. Randall
(Univ. Florida, Florida, USA)
,
BONSU Richard O.
(Univ. Florida, Florida, USA)
,
KOROTKOV Roman Y.
(Arkema Inc., Pennsylvania, USA)
,
ANDERSON Tim
(Arkema Inc., Pennsylvania, USA)
,
MCELWEE-WHITE Lisa
(Univ. Florida, Florida, USA)
資料名:
Chemistry of Materials
(Chemistry of Materials)
巻:
27
号:
24
ページ:
8326-8336
発行年:
2015年12月22日
JST資料番号:
T0893A
ISSN:
0897-4756
CODEN:
CMATEX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)