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文献
J-GLOBAL ID：201602216265511914
整理番号：16A1348803
高分子凍結法による無機レジストに発生するパターン破壊の軽減
Pattern collapse mitigation in inorganic resists via a polymer freeze technique
Kulmala Tero S.
(Laboratory for Micro and Nanotechnology, Paul Scherrer Institute, Villigen, Switzerland)
,
Buitrago Elizabeth
(Laboratory for Micro and Nanotechnology, Paul Scherrer Institute, Villigen, Switzerland)
,
Vockenhuber Michaela
(Laboratory for Micro and Nanotechnology, Paul Scherrer Institute, Villigen, Switzerland)
,
Ekinci Yasin
(Laboratory for Micro and Nanotechnology, Paul Scherrer Institute, Villigen, Switzerland)
資料名：
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻： 155 ページ： 39-43 発行年： 2016年04月02日
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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