文献
J-GLOBAL ID:201602216648259220
整理番号:16A0190602
光源変調とモニタリングを使った10nmメタル1ロジック層の先進プロセスキャラクタリゼーション
Advanced Process Characterization of a 10nm Metal 1 Logic Layer using Light Source Modulation and Monitoring
著者 (9件):
ALAGNA Paolo
(Cymer LLC, Leuven, BEL)
,
ZURITA Omar
(Cymer LLC, CA)
,
TIMOSHKOV Vadim
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
WONG Patrick
(imec, Leuven, BEL)
,
RECHTSTEINER Greg
(Cymer LLC, CA)
,
BASELMANS Jan
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
MAILFERT Julien
(imec, Leuven, BEL)
,
CONLEY Will
(Cymer LLC, Leuven, BEL)
,
HSIEH Simon
(Cymer LLC, Leuven, BEL)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
9661
ページ:
966105.1-966105.15
発行年:
2015年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)