文献
J-GLOBAL ID:201602217453583968
整理番号:16A0005365
熱電応用のためのシリサイド/シリコンのヘテロ接合構造
Silicide/Silicon Hetero-Junction Structure for Thermoelectric Applications
著者 (8件):
JUN Dongsuk
(ETRI, Daejeon, KOR)
,
KIM Soojung
(ETRI, Daejeon, KOR)
,
KIM Soojung
(UST, Daejeon, KOR)
,
CHOI Wonchul
(KAIST, Daejeon, KOR)
,
KIM Junsoo
(ETRI, Daejeon, KOR)
,
ZYUNG Taehyoung
(ETRI, Daejeon, KOR)
,
ZYUNG Taehyoung
(UST, Daejeon, KOR)
,
JANG Moongyu
(Hallym Univ., Chuncheon, KOR)
資料名:
Journal of Nanoscience and Nanotechnology
(Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻:
15
号:
10
ページ:
7472-7475
発行年:
2015年10月
JST資料番号:
W1351A
ISSN:
1533-4880
CODEN:
JNNOAR
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)