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文献
J-GLOBAL ID:201602217666459918   整理番号:16A0208971

高性能Ge MOSFETの界面工学とゲート誘電体工学

Interface Engineering and Gate Dielectric Engineering for High Performance Ge MOSFETs
著者 (2件):
SUN Jiabao
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
LU Jiwu
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)

資料名:
Advances in Condensed Matter Physics (Web)  (Advances in Condensed Matter Physics (Web))

巻: 2015  ページ: 639218 (WEB ONLY)  発行年: 2015年 
JST資料番号: U7023A  ISSN: 1687-8108  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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