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J-GLOBAL ID:201602217812728242   整理番号:16A1059489

n型6H-SiC上に有機金属化学蒸着により成長させたSiドープAlN膜の正および小電子親和力の観測【Powered by NICT】

Observation of positive and small electron affinity of Si-doped AlN films grown by metalorganic chemical vapor deposition on n-type 6H-SiC
著者 (18件):
Liang Feng
(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences)
Chen Ping
(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences)
Zhao Degang
(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences)
Jiang Desheng
(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences)
Zhao Zhijuan
(Center for Physicochemical Analysis and Measurement, Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences)
Liu Zongshun
(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences)
Zhu Jianjun
(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences)
Yang Jing
(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences)
Liu Wei
(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences)
He Xiaoguang
(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences)
Li Xiaojing
(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences)
Li Xiang
(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences)
Liu Shuangtao
(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences)
Yang Hui
(Suzhou Institute of Nano-tech and Nano-bionics, Chinese Academy of Sciences)
Zhang Liqun
(Suzhou Institute of Nano-tech and Nano-bionics, Chinese Academy of Sciences)
Liu Jianping
(Suzhou Institute of Nano-tech and Nano-bionics, Chinese Academy of Sciences)
Zhang Yuantao
(College of Electronic Science and Engineering, Jilin University)
Du Guotong
(College of Electronic Science and Engineering, Jilin University)

資料名:
Chinese Physics B  (Chinese Physics B)

巻: 25  号:ページ: 057703-1-057703-4  発行年: 2016年 
JST資料番号: W1539A  ISSN: 1674-1056  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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