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文献
J-GLOBAL ID：201602224052194134
整理番号：16A1305521
3 次元IC 積層実装技術の実用化への取り組み -基盤技術から実用技術へどのようにしてステップアップするのか?-
青柳昌宏
(産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門)
,
居村史人
(産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門)
,
加藤史樹
(産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門)
,
菊地克弥
(産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門)
,
渡辺直也
(産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門)
,
鈴木基史
(産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門)
,
仲川博
(産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門)
,
岡田義邦
(産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門)
,
横島時彦
(早稲田大学理工学術院)
,
山地泰弘
(産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門)
,
根本俊介
(産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門)
,
TUNG Bui Thanh
(産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門)
,
SAMSON Melamed
(産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門)
資料名：
Synthesiology
(Synthesiology)
巻： 9 号： 1 ページ： 1-14(J-STAGE) 発行年： 2016年
JST資料番号： L6839A ISSN： 1882-6229 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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