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文献
J-GLOBAL ID：201602224688651553
整理番号：16A0571243
自己洗浄性を有するパターン化されたシリコンウェハからインプリントされたポリジメチルシロキサンの微細構造化表面の製作
Fabrication of a poly(dimethylsiloxane) microstructured surface imprinted from patterned silicon wafer with a self-cleaning property
TAMESUE Shingo
(Niigata Univ., Niigata, JPN)
,
TAKAHASHI Eri
(Niigata Univ., Niigata, JPN)
,
KOSUGI Shunsuke
(Niigata Univ., Niigata, JPN)
,
FUKAMI Kazuhiro
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
MITSUMATA Tetsu
(Niigata Univ., Niigata, JPN)
,
TSUBOKAWA Norio
(Niigata Univ., Niigata, JPN)
,
SAKKA Tetsuo
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
YAMAUCHI Takeshi
(Niigata Univ., Niigata, JPN)
資料名：
Polymer Journal
(Polymer Journal)
巻： 48 号： 7 ページ： 835-838 発行年： 2016年07月
JST資料番号： F0612A ISSN： 0032-3896 CODEN： POLJB8 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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