文献
J-GLOBAL ID:201602231230483146
整理番号:16A1029874
強誘電性多結晶薄膜における核形成と成長の領域の限界【Powered by NICT】
Nucleation and growth domain limits in Ferroelectric polycrystalline thin films
著者 (3件):
Borowiak A. S.
(Laboratoire des Sciences et Proce ́de ́s et des Mate ́riaux (LSPM), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), UPR-CNRS 3407, Universite ́ Paris 13, Sorbonne Paris Cite ́, 99 Avenue J.-B. Cle ́ment, 93430 Villetaneuse, France)
,
Garcia-Sanchez A.
(Laboratoire des Sciences et Proce ́de ́s et des Mate ́riaux (LSPM), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), UPR-CNRS 3407, Universite ́ Paris 13, Sorbonne Paris Cite ́, 99 Avenue J.-B. Cle ́ment, 93430 Villetaneuse, France)
,
Mercone S.
(Laboratoire des Sciences et Proce ́de ́s et des Mate ́riaux (LSPM), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), UPR-CNRS 3407, Universite ́ Paris 13, Sorbonne Paris Cite ́, 99 Avenue J.-B. Cle ́ment, 93430 Villetaneuse, France)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2016
号:
ISAF/ECAPD/PMF
ページ:
1-4
発行年:
2016年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)