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文献
J-GLOBAL ID：201602236036830760
整理番号：13A1254104
H-plasma-assisted aluminum induced crystallization of amorphous silicon
Li Juan
(Inst. of Photo-Electronics, Nankai Univ. Tianjin Key Lab. for Photo-Electronic Thin Film Devices and Technol., Tianjin)
,
Liu Ning
(Inst. of Photo-Electronics, Nankai Univ. Tianjin Key Lab. for Photo-Electronic Thin Film Devices and Technol., Tianjin)
,
Luo Chong
(Inst. of Photo-Electronics, Nankai Univ. Tianjin Key Lab. for Photo-Electronic Thin Film Devices and Technol., Tianjin)
,
Meng Zhiguo
(Inst. of Photo-Electronics, Nankai Univ. Tianjin Key Lab. for Photo-Electronic Thin Film Devices and Technol., Tianjin)
,
Xiong Shaozhen
(Inst. of Photo-Electronics, Nankai Univ. Tianjin Key Lab. for Photo-Electronic Thin Film Devices and Technol., Tianjin)
,
Hoi Sing Kwok
(Dep. of Electronic and Computer Engineering, The Hong Kong Univ. of Sci. and Technol., Hong Kong, Kowloon)
資料名：
Journal of Semiconductors
(Journal of Semiconductors)
巻： 33 号： 6 ページ： 066003-1-066003-4 発行年： 2012年
JST資料番号： C2377A ISSN： 1674-4926 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 中国 (CHN) 言語： 英語 (EN)
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