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文献
J-GLOBAL ID:201602236507573305   整理番号:16A1030332

核生成制御された液相結晶化を利用した透明基板上の高移動度GeSn p-MOSFET【Powered by NICT】

High-mobility GeSn p-MOSFETs on transparent substrate utilizing nucleation-controlled liquid-phase crystallization
著者 (5件):
Oka Hiroshi
(Graduate School of Engineering, Osaka University, Japan)
Amamoto Takashi
(Graduate School of Engineering, Osaka University, Japan)
Hosoi Takuji
(Graduate School of Engineering, Osaka University, Japan)
Shimura Takayoshi
(Graduate School of Engineering, Osaka University, Japan)
Watanabe Heiji
(Graduate School of Engineering, Osaka University, Japan)

資料名:
IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)

巻: 2016  号: SNW  ページ: 128-129  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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