文献
J-GLOBAL ID:201602237207712490
整理番号:16A1373841
2レベルの相互接続を備えた4H-SiC JFET ICの500°Cでの長期間の実証
Prolonged 500 °C Demonstration of 4H-SiC JFET ICs With Two-Level Interconnect
著者 (6件):
Spry David J.
(John H. Glenn Res. Center, Nat. Aeronaut. & Space Adm., Cleveland, OH, USA)
,
Neudeck Philip G.
(John H. Glenn Res. Center, Nat. Aeronaut. & Space Adm., Cleveland, OH, USA)
,
Liangyu Chen
(Ohio Aerosp. Inst., Cleveland, OH, USA)
,
Lukco Dorothy
(Vantage Partners LLC, Brook Park, OH, USA)
,
Chang Carl W.
(Vantage Partners LLC, Brook Park, OH, USA)
,
Beheim Glenn M.
(John H. Glenn Res. Center, Nat. Aeronaut. & Space Adm., Cleveland, OH, USA)
資料名:
IEEE Electron Device Letters
(IEEE Electron Device Letters)
巻:
37
号:
5
ページ:
625-628
発行年:
2016年
JST資料番号:
B0344B
ISSN:
0741-3106
CODEN:
EDLEDZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)