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文献
J-GLOBAL ID:201602237207712490   整理番号:16A1373841

2レベルの相互接続を備えた4H-SiC JFET ICの500°Cでの長期間の実証

Prolonged 500 °C Demonstration of 4H-SiC JFET ICs With Two-Level Interconnect
著者 (6件):
Spry David J.
(John H. Glenn Res. Center, Nat. Aeronaut. & Space Adm., Cleveland, OH, USA)
Neudeck Philip G.
(John H. Glenn Res. Center, Nat. Aeronaut. & Space Adm., Cleveland, OH, USA)
Liangyu Chen
(Ohio Aerosp. Inst., Cleveland, OH, USA)
Lukco Dorothy
(Vantage Partners LLC, Brook Park, OH, USA)
Chang Carl W.
(Vantage Partners LLC, Brook Park, OH, USA)
Beheim Glenn M.
(John H. Glenn Res. Center, Nat. Aeronaut. & Space Adm., Cleveland, OH, USA)

資料名:
IEEE Electron Device Letters  (IEEE Electron Device Letters)

巻: 37  号:ページ: 625-628  発行年: 2016年 
JST資料番号: B0344B  ISSN: 0741-3106  CODEN: EDLEDZ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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