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文献
J-GLOBAL ID：201602240533295463
整理番号：16A1266485
通信波長での水素化非晶質シリコン導波路におけるRaman散乱【Powered by NICT】
Raman scattering in hydrogenated amorphous silicon waveguides at telecommunication wavelengths
Tanizawa Ken
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan)
,
Suda Satoshi
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan)
,
Sakakibara Yoichi
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan)
,
Kamei Toshihiro
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan)
,
Takei Ryouhei
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan)
,
Kawashima Hitoshi
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan)
,
Namiki Shu
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan)
,
Mori Masahiko
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan)
,
Ishikawa Hiroshi
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016 号： PIERS ページ： 1629 発行年： 2016年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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