文献
J-GLOBAL ID:201602241538674123
整理番号:16A0630811
YAlO3(001)基板上でのCr2O3薄膜の成膜条件の最適化および結晶構造解析
Structure Analyses and Optimization of deposition condition for Cr2O3 thin films grown on Surface Treated YAlO3(001) Substrates
著者 (8件):
橋本浩佑
(日本大 理工)
,
隅田貴士
(日本大 理工)
,
福井慎二郎
(日本大 理工)
,
平戸剛志
(日本大 理工)
,
柳原康宏
(日本大 理工)
,
永田知子
(日本大 理工)
,
山本寛
(日本大 理工)
,
岩田展幸
(日本大 理工)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
116
号:
101(OME2016 18-26)
ページ:
19-22
発行年:
2016年06月10日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)